Improving etchability of challenging materials through the ion implantation process

离子注入 过程(计算) 计算机科学 材料科学 离子 化学 操作系统 有机化学
作者
Yunsoo Kim,Dongmin Jeong,Seungho Lee,Yoon-Ji Kim,Bom-Sok Kim,Tae-Ho Lee,Jinho Ahn
标识
DOI:10.1117/12.3034605
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