Chemical vapor deposition of tin oxide: Fundamentals and applications

化学气相沉积 氧化锡 氧化物 材料科学 化学工程 薄膜 化学 无机化学 纳米技术 冶金 工程类
作者
A.M.B. van Mol,Yongkee Chae,Anthony H. McDaniel,Mark D. Allendorf
出处
期刊:Thin Solid Films [Elsevier BV]
卷期号:502 (1-2): 72-78 被引量:75
标识
DOI:10.1016/j.tsf.2005.07.247

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