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Evolution of Gate-Oxide Interface Traps in Planar SiC MOSFET Under Repeated Short-Circuit Stress
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作者
Xianwei Meng,
Chunsheng Guo,
Qian Wen,
Shiwei Feng,
Yamin ZHANG
出处
期刊：
IEEE Transactions on Electron Devices
[Institute of Electrical and Electronics Engineers]
日期：2025-01-01
卷期号：: 1-7
标识
DOI：10.1109/ted.2025.3618819
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