抵抗
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光电子学
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纳米棒
纳米结构
纳米光刻
软光刻
遮罩（插图）
作者
Pengzhe Cai,Y. R. Shen,Xiaocheng Huang,Delong Liu,Junyi Chen,Shahid Iqbal,Yingwu Luo,Hanming Wu,Junjie Zhao
摘要
As the cornerstone of semiconductor manufacturing, lithography drives the miniaturization of nanoscale devices. Solutionprocessed resists commonly used in lithography face pivotal hurdles due to solvent-induced defects such as pattern collapse...
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