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Thermally Activated Homologous Defect Engineering for Ultra-Stable Ultrahigh-Nickel Cathodes via Self-Driven Short-Range Disorder

材料科学 阴极 制作 化学工程 纳米技术 光电子学 电极 复合材料 同源染色体 降级（电信）
作者
Sida Huo,Ben Su,Lei Chai,Yue Wang,Li Wang,Mengyu Qi,Tingrun Lai,Zichen Liu,Meng Li,Anbin Zhou,Jingyi Qiu,Wendong Xue,Hong Xu,Xiangming He
出处
期刊：Energy Storage Materials [Elsevier]
日期：2025-11-01 卷期号：: 104750-104750
标识
DOI：10.1016/j.ensm.2025.104750
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