Designing a Deep-UV Nonlinear Optical Fluorooxosilicophosphate

部分 化学 六坐标 非线性光学 热电性 压电 非线性系统 硅酸盐 铁电性 结晶学 光电子学 立体化学 有机化学 材料科学 物理 复合材料 电介质 量子力学
作者
Qingran Ding,Xiaomeng Liu,Sangen Zhao,Yusong Wang,Yanqiang Li,Lina Li,Shuai Liu,Zheshuai Lin,Maochun Hong,Junhua Luo
出处
期刊:Journal of the American Chemical Society [American Chemical Society]
卷期号:142 (14): 6472-6476 被引量:111
标识
DOI:10.1021/jacs.0c00060
摘要

Structures composed of SiOxF6-x (x = 1, 2, 3, 4, 5) or SiOxF4-x (x = 1, 2, 3) species have thus far been observed in only a few compounds, and their functional properties are completely unknown in silicate chemistry. By introducing the least electronegative element, cesium, and the most electronegative element, fluorine, into the silicophosphate system, we successfully designed the first noncentrosymmetric fluorooxosilicophosphate with Si-F bonds, CsSiP2O7F, whose structure consists of an unprecedented SiP2O10F moiety containing hexacoordinate SiO5F species. The experimental results highlight CsSiP2O7F as the first fluorooxosilicophosphate deep-UV nonlinear optical (NLO) material. The first-principles calculations reveal that the SiP2O10F moiety is a new type of NLO-active unit and that both cesium and fluorine increase the deep-UV transparency of CsSiP2O7F. This work provides a new source of deep-UV NLO materials and insights into obtaining noncentrosymmetric structures that are indispensable to functional materials in nonlinear optics, piezoelectricity, ferroelectric, pyroelectricity, etc.
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