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Influence of pulsed laser deposited hafnium oxide thin film as gate dielectric on the fabrication of Al0.1Ga0.9N/GaN MOS-HEMT
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作者
Gunjan Yadav,
Kajal Jindal,
Monika Tomar
出处
期刊:
Materials Science in Semiconductor Processing
[Elsevier]
日期:2023-01-01
卷期号:153: 107136-107136
被引量:2
标识
DOI:10.1016/j.mssp.2022.107136
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