Improvement of Polishing Performance of Sio2/Si3n4 by Surfactants in Ceo2 Based Slurry

抛光泥浆化学机械平面化材料科学冶金复合材料

作者

Xinyu Zhao,Xinyu Han,Fangyuan Wang,Baimei Tan,Yunhui Shi,Jiadong Zhao,Wenyue Qi,Jiang Geng

标识

DOI：10.2139/ssrn.5268908

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