Integrated Tribo-Chemical Modeling of Copper CMP

作者
Shantanu Tripathi,Seungchoun Choi,Fiona M. Doyle,David Dornfeld
出处
期刊:MRS Proceedings [Cambridge University Press]
卷期号:1157 被引量:2
标识
DOI:10.1557/proc-1157-e02-03

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