The behaviors of H atoms and vacancies at W/Lu2O3 interface: First-principles calculations

材料科学 空位缺陷 凝聚态物理 结晶学 化学 物理
作者
Wenyi Huang,Ping Wu,Ning Chen
出处
期刊:Applied Surface Science [Elsevier BV]
卷期号:: 162777-162777
标识
DOI:10.1016/j.apsusc.2025.162777

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