�ber den Thermischen Abbau von Siliciumdiimid Si(NH)2

Abstract Aus SiCl 4 und flüssigem NH 3 dargestelltes Si(NH) 2 wird bei p NH3 = 50 Torr abgebaut. Folgende Abbaureihe wurde sichergestellt: magnified image Außer dem hexagonal kristallisierenden α‐Si 3 N 4 2 sind alle Verbindungen röntgenamorph und sehr feuchtigkeitsempfindlich. Wahrscheinlich liegen Hochpolymere vor, mit einem nichtperiodischen und nichtsymmetrischen Netzwerk von Si(NH) 4 ‐ bzw. SiN 4 ‐Tetraedern.