Low pressure MOCVD of Er2O3 and Gd2O3 films

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作者
Manohar Singh,T. Shripathi,K. Shalini,S. A. Shivashankar
出处
期刊:Materials Chemistry and Physics [Elsevier BV]
卷期号:105 (2-3): 433-441 被引量:19
标识
DOI:10.1016/j.matchemphys.2007.05.009
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