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Low pressure MOCVD of Er2O3 and Gd2O3 films

结晶度 金属有机气相外延 微晶 材料科学 薄膜 微观结构 带隙 碳膜 光电子学 化学工程 纳米技术 分析化学（期刊） 化学 复合材料 外延 冶金 图层（电子） 有机化学 工程类
作者
Manohar Singh,T. Shripathi,K. Shalini,S. A. Shivashankar
出处
期刊：Materials Chemistry and Physics [Elsevier BV]
日期：2007-06-14 卷期号：105 (2-3): 433-441 被引量：19
标识
DOI：10.1016/j.matchemphys.2007.05.009
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