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Extreme ultraviolet (EUV) lithography

极紫外光刻 极端紫外线 平版印刷术 光学 商业化 下一代光刻 抵抗 材料科学 物理 纳米技术 电子束光刻 政治学 激光器 图层（电子） 法学
作者
Bryan J. Rice
出处
期刊：Elsevier eBooks [Elsevier BV]
日期：2014-01-01 卷期号：: 42-79 被引量：28
标识
DOI：10.1533/9780857098757.42
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