Systematic root cause analysis of ceria-induced defects during chemical mechanical planarization and cleaning

化学机械平面化 材料科学 复合材料 纳米技术 法律工程学 抛光 工程类
作者
Van-Tuan Nguyen,James R. Wait,Tomoya Nishi,Satomi Hamada,Hirokuni Himaya,Jihoon Seo
出处
期刊:Journal of Manufacturing Processes [Elsevier BV]
卷期号:127: 27-34 被引量:11
标识
DOI:10.1016/j.jmapro.2024.07.102
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