Ion beam assisted deposition of multi-layer X-ray mirrors for the extreme ultraviolet lithography

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作者
Thomas Chassé,H. Neumann,B. Rauschenbach
出处
期刊:Nuclear Instruments & Methods in Physics Research Section B-beam Interactions With Materials and Atoms [Elsevier BV]
卷期号:206: 377-381 被引量:3
标识
DOI:10.1016/s0168-583x(03)00766-3

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