Atomic-scale probing of heterointerface phonon bridges in nitride semiconductor

声子 材料科学 接口(物质) 凝聚态物理 原子单位 半导体 纳米尺度 瓶颈 光电子学 纳米技术 物理 计算机科学 毛细管数 量子力学 毛细管作用 复合材料 嵌入式系统
作者
Yuehui Li,Ruishi Qi,Ruochen Shi,Jiannan Hu,Zhetong Liu,Yuanwei Sun,Mingqiang Li,Ning Li,Can‐Li Song,Lai Wang,Zhibiao Hao,Yi Luo,Qi-Kun Xue,Xu-Cun Ma,Peng Gao
出处
期刊:Proceedings of the National Academy of Sciences of the United States of America [National Academy of Sciences]
卷期号:119 (8) 被引量:50
标识
DOI:10.1073/pnas.2117027119
摘要

Significance As high-power devices approach nanoscale, interface thermal conductance (ITC) becomes a bottleneck to govern the device performance, which is dominated by the interface phonons. In order to gain insights into engineering ITC, here we measure the local phonons across AlN/Si and AlN/Al interfaces by using atomically resolved vibrational electron energy-loss spectroscopy. We find that the dominant types of interface phonons for ITC are very different in these two systems and demonstrate the ability to correlate the measured interface phonons with ITC at atomic scale. Our study reveals the underlying mechanism of ITC and provides useful insights for thermal management in these practically important semiconductors.
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