光刻胶
干法蚀刻
体积流量
材料科学
蚀刻（微加工）
反应离子刻蚀
抵抗
微电子机械系统
过程（计算）
氧气
等离子体
离子
光电子学
纳米技术
化学
计算机科学
图层（电子）
有机化学
物理
操作系统
量子力学
作者
Shuaipeng Wang,Jianqiang Li,Yanning Chen,Dongyan Zhao,Yubo Wang,Haifeng Zhang
标识
DOI：10.1109/icept.2017.8046402
摘要
Dry etching process are some of the most familiar MEMS technology. In this paper, we study the rate enhancements observed through operation of the power of plasma source and the oxygen flow rate in a single step at low temperature for high dose implanted photoresist removal.
科研通智能强力驱动
Strongly Powered by AbleSci AI
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
GingerF
OK
老的火龙果
烬余
Ali
DW
悦耳的怀寒
DIVINEDC
76ers
the_coco
贪玩的秋柔
mmyhn
无极微光
牧青
Nole
12Nightz
Lingeek
赵赶超
初景
369ninja
皖公网安备34019202002308
