Overcoming Asymmetric Carrier Injection in III-Nitride Light-Emitting Diodes through Defect Engineering

材料科学 光电子学 氮化物 发光二极管 二极管 工程物理 纳米技术 物理 图层(电子)
作者
Yuxin Yang,Zhiming Shi,Shunpeng Lv,Hang Zang,Xiaobao Ma,Feng Zhang,Yan Yu,Peng Han,Ke Jiang,Xiaolan Yan,Su-Huai Wei,Xiaojuan Sun,Dabing Li
出处
期刊:Physical Review Letters [American Physical Society]
卷期号:135 (2): 026402-026402 被引量:2
标识
DOI:10.1103/kt15-x472
摘要

The rapid advancements in the semiconductor industry are often accompanied by a breakthrough in defect engineering. While defects usually hinder device performance, they can also offer new opportunities for manipulating semiconductor properties. In this Letter, we present an effective approach to solving the long-standing asymmetric injection of carriers problem in LEDs by introducing nitrogen vacancies (V_{N}) at the GaN/AlN quantum well (QW) interface. The V_{N} states function as "steps" as well as sources of perturbation potential to improve the electron relaxation to the bottom of the conduction band through the electron-phonon (el-ph) coupling. The electron relaxation time (τ_{e}), initially as long as 8.61 ps, was reduced to 0.15 ps, comparable to the τ_{h} (0.12 ps). Our work not only resolves a persistent bottleneck in GaN-based light sources but also offers a new perspective on utilizing defects to engineer carrier relaxation.
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