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Modeling of ferroelectric tunnel junctions based on the Pt/BaTiO3/Nb:SrTiO3 stack

堆栈(抽象数据类型) 电介质 铁电性 凝聚态物理 电阻式触摸屏 介电常数 高-κ电介质 材料科学 隧道枢纽 铁电电容器 恒压 电压 纳米技术 物理 光电子学 电气工程 量子隧道 计算机科学 工程类 程序设计语言 冶金
作者
Mauro Dossena,Gerardo Malavena,Alessandro S. Spinelli,Christian Monzio Compagnoni
出处
期刊:Journal of Applied Physics [American Institute of Physics]
卷期号:132 (7) 被引量:1
标识
DOI:10.1063/5.0100460
摘要

In this paper, we report a comprehensive modeling investigation of the Pt/BaTiO3/Nb:SrTiO3 stack designed to operate as a Ferroelectric Tunnel Junction (FTJ). The analysis accounts for some specific features of the materials in the stack that are typically overlooked, such as the electric field dependence of the dielectric constant of Nb:SrTiO3 and the dependence of the dielectric constant of BaTiO3 on its thickness. Modeling results are validated through a systematic and consistent comparison with experimental data for the current–voltage characteristics of devices with different stack parameters, at different temperatures. From that, the resistive memory window of an FTJ based on the Pt/BaTiO3/Nb:SrTiO3 stack is then explored over its design space. Results allow to comprehensively assess the ultimate performance of the device, providing hints for the successful development of next-generation FTJ-based memory technologies.
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