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Properties of phosphorus-boron co-doped c-Si quantum dots/SiNx:H thin film prepared by PECVD in-situ deposition
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作者
Zhifeng Gu,
Feng Shan,
Jia Liu
出处
期刊：
Scientific Reports
[Nature Portfolio]
日期：2024-09-16
卷期号：14 (1)
链接
doi.org
nih.gov
nih.gov
doi.org
标识
DOI：10.1038/s41598-024-72560-3
摘要
Co-doping of phosphorus and boron elements into crystalline silicon quantum dot (c-Si QD) is an effective approach for enhancing the photoluminescence (PL) performance. In this paper, we report on the preparation of hydrogenated silicon nitride (SiN
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