Selecting a Target for Obtaining Films of Higher Manganese Silicide Using Magnetron Sputtering

硅化物 溅射沉积 材料科学 溅射 光电子学 腔磁控管 工程物理 冶金 纳米技术 薄膜 物理
作者
М. S. Lukasov,Н. А. Архарова,Andrey Orekhov,T. S. Kamilov,V. V. Klechkovskaya
出处
期刊:Crystallography Reports [Springer Nature]
卷期号:69 (3): 374-379
标识
DOI:10.1134/s106377452460042x

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