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Selecting a Target for Obtaining Films of Higher Manganese Silicide Using Magnetron Sputtering

硅化物 锰 溅射沉积 材料科学 溅射 光电子学 腔磁控管 工程物理 冶金 纳米技术 硅 薄膜 物理
作者
М. S. Lukasov,Н. А. Архарова,Andrey Orekhov,T. S. Kamilov,V. V. Klechkovskaya
出处
期刊：Crystallography Reports [Pleiades Publishing]
日期：2024-06-01 卷期号：69 (3): 374-379
标识
DOI：10.1134/s106377452460042x
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