Indium tin oxide etch characteristics using CxH2x+2(x=1,2,3)/Ar

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作者
Jong Woo Hong,Hyun Min Cho,Yu Gwang Jeong,Da‐Woon Jung,Yun Jong Yeo,Ji Eun Kang,Hee‐Ju Kim,Hyun Woo Tak,Geun Young Yeom,Dong Woo Kim
出处
期刊:Materials Science in Semiconductor Processing [Elsevier]
卷期号:160: 107395-107395 被引量:1
标识
DOI:10.1016/j.mssp.2023.107395
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