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Improvement in Electrical Characteristics of BE-SONOS Using High-k Dielectrics in Tunneling Barrier

材料科学量子隧道电介质光电子学带偏移量氧化物高-κ电介质氮化物栅极电介质缩放比例氧化硅带隙硅纳米技术栅氧化层介电常数氮化硅价带图层（电子）电气工程晶体管冶金几何学数学工程类电压

作者

Vaibhav Neema,Mansimran Kaur,Deepika Gupta,Santosh Kumar Vishvakarma,Arya Dutt,Ankur Beohar

出处

期刊：Transactions on Electrical and Electronic Materials [Springer Science+Business Media]
日期：2021-03-19 卷期号：22 (3): 235-242 被引量：1

标识

DOI：10.1007/s42341-021-00307-2

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