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ELECTRONIC STRUCTURE OF STRAINED VANADIUM OVERLAYERS ON W(100) AND Ta(100)

覆盖层 单层 凝聚态物理 材料科学 态密度 费米能级 双层 电子结构 格子(音乐) 过渡金属 表面状态 结晶学 化学 纳米技术 物理 曲面(拓扑) 电子 冶金 生物化学 几何学 数学 量子力学 声学 催化作用
作者
Romeo de Coss
出处
期刊:Surface Review and Letters [World Scientific]
卷期号:03 (04): 1505-1509 被引量:7
标识
DOI:10.1142/s0218625x96002503
摘要

We study the role of hybridization and overlayer–substrate lattice mismatch in determining the surface electronic structure of strained V monolayers and bilayers on W(100) and Ta(100). The local density of states is calculated in the tight-binding approximation within the surface-Green-function-matching formalism. For one monolayer of V on W(100) and Ta(100), the strong monolayer–substrate 3d–5d hybridization determines the features of the surface local density of states, with essentially no differences between 1V/W(100) and 1V/Ta(100). For the bilayer we find that the electronic structure of the topmost layer depends strongly on the lattice mismatch between overlayer and substrate. In particular, we find that the surface local density of states at the Fermi level in 2V/Ta(100) is 69% higher than in 1V/Ta(100); the lattice mismatch between bulk constants of V and Ta is 9.0%. These results indicate that strain induces strong band narrowing in vanadium overlayers on transition metals, despite the large overlayer–substrate hybridization, but depends critically on the film thickness.

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