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A survey of acceptor dopants forβ-Ga2O3

掺杂剂 带隙 接受者 杂质 半导体 宽禁带半导体 材料科学 密度泛函理论 兴奋剂 化学物理 化学 物理 计算化学 凝聚态物理 光电子学 有机化学
作者
John L. Lyons
出处
期刊:Semiconductor Science and Technology [IOP Publishing]
卷期号:33 (5): 05LT02-05LT02 被引量:219
标识
DOI:10.1088/1361-6641/aaba98
摘要

With a wide band gap, high critical breakdown voltage and commercially available substrates, Ga2O3 is a promising material for next-generation power electronics. Like most wide-band-gap semiconductors, obtaining better control over its electrical conductivity is critically important, but has proven difficult to achieve. Although efficient p-type doping in Ga2O3 is not expected, since theory and experiment indicate the self-trapping of holes, the full development of this material will require a better understanding of acceptor dopants. Here the properties of group 2, group 5 and group 12 acceptor impurities in β-Ga2O3 are explored using hybrid density functional calculations. All impurities are found to exhibit acceptor transition levels above 1.3 eV. After examining formation energies as a function of chemical potential, Mg (followed closely by Be) is determined to be the most stable acceptor species.
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