Thermal stability of Ni(Pt) silicide films formed on poly-Si

硅化物 热稳定性 材料科学 纳米技术 化学工程 工程物理 复合材料 光电子学 物理 工程类
作者
I. Dói,Ricardo Cotrin Teixeira,Rafael Eugenio dos Santos,J. A. Diniz,Jacobus W. Swart,Sebastião Gomes dos Santos Filho
出处
期刊:Microelectronic Engineering [Elsevier BV]
卷期号:82 (3-4): 485-491 被引量:9
标识
DOI:10.1016/j.mee.2005.07.047

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