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Inductively coupled plasma etching of III–V semiconductors in Cl2-based chemistries

作者
J. W. Lee,Eric S. Lambers,C. R. Abernathy,S. J. Pearton,RANDY J. SHUL,Fan Ren,William S. Hobson,Chris Constantine
出处
期刊:Materials Science in Semiconductor Processing [Elsevier BV]
卷期号:1 (1): 65-73 被引量:19
标识
DOI:10.1016/s1369-8001(98)00002-x
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