Novel Antimony Precursors for Low-Temperature CVD of Antimonide Thin Films

托宾 化学气相沉积 材料科学 薄膜 无机化学 催化作用 化学 有机化学 纳米技术 冶金 砷化氢 磷化氢
作者
M.A. Todd,Gautam Bhandari,T. H. Baum
出处
期刊:MRS Proceedings [Cambridge University Press]
卷期号:495
标识
DOI:10.1557/proc-495-113

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