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Influence of Process Conditions on the Optical Properties HfO2/SiO2 Thin Films for High Power Laser Coatings

材料科学 折射率 薄膜 溅射 光学涂层 光电子学 激光器 激光束 光学 纳米技术 物理
作者
Kuo‐Jui Hsiao,J. M. Blanco Rodriguez,J. T. Jensen,D. Patel,D. Alessi,E. Granados,Y. Wang,J. J. Rocca,Carmen S. Menoni,Peter Langston,Albert Ogloza
标识
DOI：10.1364/fio.2007.jwc3
摘要
The influence of process conditions on the loss, refractive index, and laser induced damage threshold (LIDT) of HfO2/SiO2 thin films grown by ion beam assisted sputtering is investigated to realize films with losses less than 20 ppm.
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