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Comparison of electromagnetic radiation in trench-gate and planar-gate SiC MOSFETs under TID radiation: A comprehensive study
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光学
场效应晶体管
电磁干扰
作者
Hongxin Zhang,
Yunheng Li,
Xiong Wei,
Lei Shu,
Zhi Yu Sun,
Yuanzhen Wang,
Y.-L. Wu,
Shichu Guan
出处
期刊:
Microelectronics Journal
[Elsevier BV]
日期:2026-02-01
卷期号:: 107116-107116
标识
DOI:10.1016/j.mejo.2026.107116
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