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Topologically Epitaxial Conductive Filaments in Oxide Artificial Synapses Enable Neuroglia‐Like Regulatory Dynamics for Embodied Intelligence

神经形态工程学 材料科学 纳米技术 机器人 氧化物 导电体 计算机科学 神经科学 人工神经网络 突触可塑性 外延 活性物质 动力学(音乐) 可塑性 整改 生物系统 人工智能 记忆电阻器 执行机构 CMOS芯片 冯·诺依曼建筑 机械转化 运动学 机器人学 架空(工程) CDC42型 仿生学 峰值时间相关塑性 纳米- 避障 生物物理学
作者
Chen Luo,zuheng Wu,Zhe Yu,Yunlai Zhu,Zongyi Li,Zuoyuan Dong,Jialu Huang,Jingming Zhou,Xin Li,Litao Sun,Junhao Chu,Xing Wu,Qi Liu
出处
期刊:Advanced Materials [Wiley]
卷期号:38 (12): e17913-e17913
标识
DOI:10.1002/adma.202517913
摘要

Resistance random access memory (RRAM) has emerged as a critical device for neuromorphic computing, offering significant potential for synaptic simulation. Nevertheless, it remains challenging to control the stochastic nature of the conductive filaments (CFs) in oxide-based artificial synapses, leaving a critical gap between biological plasticity and neuromorphic reliability. Here, inspirated from the directional guidance of growth factors and the mechanical traction exerted by glia during axonal outgrowth, and apply these biological principles into a topo-epitaxial self-assembly protocol that steers every step of CF growth. By prescribing both the ionic trajectory and the structural registry of the nascent filament, we suppress intrinsic transport stochasticity and enforce crystallographic coherence. The result is atomic-precision control over ion migration and single-crystalline CF formation-achieved within standard CMOS flows, without extra masks or exotic processing. Finally, by constructing a behavior-level model based on the habituation characteristics of oxide artificial synapses, the application in obstacle avoidance is successfully presented. Our synapses empower embodied AI robots with rich, robust, and self-adaptive behaviors.
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