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作者
Xubo Zhu,彭震宇 Peng Zhenyu,曹先存 Cao Xiancun,何英杰 He Yingjie,姚官生 Yao Guansheng,陶 飞 Tao Fei,张利学 Zhang Lixue,丁嘉欣 Ding Jiaxin,李 墨 Li Mo,张亮 Zhang Liang,王 雯 Wang Wen,吕衍秋 Lv Yanqiu
出处
期刊:Infrared and Laser Engineering
[Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics]
日期:2019-01-01
卷期号:48 (11): 1104001-1104001
被引量:3
标识
DOI:10.3788/irla201948.1104001
摘要
InAs/GaSb超晶格材料已经成为了第三代红外焦平面探测器的优选材料。开展了InAs/GaSb二类超晶格中/短波双色焦平面探测器器件结构设计、材料外延、芯片制备,对钝化方法进行了研究,制备出性能优良的320256双色焦平面探测器。首先以双色叠层背靠背二极管电压选择结构作为基本结构,设计了中/短波双色芯片结构,然后采用分子束外延技术生长出结构完整、表面平整、低缺陷密度的PNP结构超晶格材料。采用硫化与SiO2复合钝化方法,最终制备的器件在77 K下中波二极管的RA值达到13.6 kcm2,短波达到538 kcm2。光谱响应特性表明短波响应波段为1.7~3 m,中波为3~5 m。双色峰值探测率达到中波3.71011 cmHz1/2W-1以上,短波2.21011 cmHz1/2W-1以上。响应非均匀性中波为9.9%,短波为9.7%。中波有效像元率为98.46%,短波为98.06%。
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