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Gate-tunable negative refraction of mid-infrared polaritons

极化子 负折射 红外线的 折射 光电子学 材料科学 太赫兹辐射 异质结 超材料 石墨烯 等离子体子 光学 纳米尺度 物理 纳米技术
作者
Hai Hu,Na Chen,Hanchao Teng,Renwen Yu,Mengfei Xue,Ke Chen,Yuchuan Xiao,Yunpeng Qu,Debo Hu,Jianing Chen,Zhipei Sun,Peining Li,F. Javier Garcı́a de Abajo,Qing Dai
出处
期刊:Science [American Association for the Advancement of Science]
卷期号:379 (6632): 558-561 被引量:141
标识
DOI:10.1126/science.adf1251
摘要

Negative refraction provides a platform to manipulate mid-infrared and terahertz radiation for molecular sensing and thermal emission applications. However, its implementation based on metamaterials and plasmonic media presents challenges with optical losses, limited spatial confinement, and lack of active tunability in this spectral range. We demonstrate gate-tunable negative refraction at mid-infrared frequencies using hybrid topological polaritons in van der Waals heterostructures. Specifically, we visualize wide-angle negatively refracted polaritons in α-MoO3 films partially decorated with graphene, undergoing reversible planar nanoscale focusing. Our atomically thick heterostructures weaken scattering losses at the interface while enabling an actively tunable transition of normal to negative refraction through electrical gating. We propose polaritonic negative refraction as a promising platform for infrared applications such as electrically tunable super-resolution imaging, nanoscale thermal manipulation, enhanced molecular sensing, and on-chip optical circuitry.
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