Low-temperature plasma-enhanced atomic layer deposition of Ga2O3 films using N2O plasma for silicon surface passivation

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作者
A V Uvarov,A I Baranov,Vyacheslav Pozdeev,A. A. Maksimova,Ekaterina Vyacheslavova,Oleg Pavlovich Mikhaylov,E. Ya. Yarchuk,Demid A. Kirilenko,А.С. Гудовских
出处
期刊:Applied Surface Science [Elsevier BV]
卷期号:719: 165092-165092 被引量:1
标识
DOI:10.1016/j.apsusc.2025.165092
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