The mechanism of ceria slurry on chemical mechanical polishing efficiency and surface quality of Gallium nitride

材料科学 抛光 泥浆 化学机械平面化 氮化物 冶金 机制(生物学) 氮化镓 质量(理念) 复合材料 图层(电子) 认识论 哲学
作者
Wenhao Xian,Baoguo Zhang,Shitong Liu,Yijun Wang,Sihui Qin,Yang Liu
出处
期刊:Materials Science in Semiconductor Processing [Elsevier]
卷期号:188: 109208-109208 被引量:3
标识
DOI:10.1016/j.mssp.2024.109208
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