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Mechanism of porous low-k film damage induced by plasma etching radicals

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作者
Yoshihisa Iba,Shiro Ozaki,Makoto Sasaki,Yasushi Kobayashi,Tomoyuki Kirimura,Yoshihiro Nakata
出处
期刊：Microelectronic Engineering [Elsevier BV]
日期：2009-08-04 卷期号：87 (3): 451-456 被引量：32
标识
DOI：10.1016/j.mee.2009.07.027
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