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High temperature annealing effects on the chemical and mechanical properties of inductively-coupled plasma-enhanced chemical vapor deposited a-SiC:H thin films

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作者

Tobias Frischmuth,Michael Schneider,Daniel Maurer,Thomas Grille,Ulrich Schmid

出处

期刊：Thin Solid Films [Elsevier BV]
日期：2016-05-04 卷期号：611: 6-11 被引量：15

标识

DOI：10.1016/j.tsf.2016.05.001

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