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Impact of CVD chemistry on band alignment at the MoS2/SiO2 interface

二硫化钼半导体 X射线光电子能谱化学偶极子绝缘体（电）光电发射光谱学材料科学纳米技术光电子学化学工程有机化学工程类冶金

作者

Pinaka Pani Tummala,Gilles Delie,Andrea Cataldo,Sara Ghomi,Christian Martella,Gabriele Ferrini,Alessandro Molle,Alessio Lamperti,V. V. Afanas’ev

出处

期刊：Solid-state Electronics [Elsevier BV]
日期：2023-09-16 卷期号：209: 108782-108782 被引量：6

链接

kuleuven.bedoi.org

标识

DOI：10.1016/j.sse.2023.108782

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