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作者
Stjepko Fazinić,Iva Božičević Mihalić,Anja Mioković,M. Rodríguez-Ramos,Marko Petrič
摘要
Kα X-ray emission induced by 2 MeV H and 3 MeV He ions in thick Al metal, Al 2 O 3 , Al 2 S 3 , AlN, and AlPO 4 was measured using a wavelength-dispersive spectrometer with a flat diffraction crystal to study the chemical sensitivity of related X-ray spectra.
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