Study of lithographic parameters for the trilayer resist systems in electron beam lithography

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作者
Robert Andok,Katia Vutova,A. Konečnı́ková,Mário Ritomský,I. Kostič
出处
期刊:Nucleation and Atmospheric Aerosols 卷期号:2778: 030001-030001 被引量:1
标识
DOI:10.1063/5.0136258
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