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Electrical contact resistance of a thin oxide layer with a low mechanical load

材料科学 复合材料 热传导 接触电阻 氧化物 图层(电子) 电接点 导电性 电阻和电导 电阻率和电导率 电介质 电气工程 光电子学 冶金 工程类
作者
Sang-Kuk Kim,Han Bok Kwak,Jongjin Lee,Insuk Yu
出处
期刊:European Physical Journal-applied Physics [EDP Sciences]
卷期号:64 (3): 31301-31301
标识
DOI:10.1051/epjap/2013130053
摘要

The electrical contact resistance of a vertical binary contact between stainless steel balls with a low mechanical load was investigated. Using a statistical approach, we measured the voltage at which the dielectric breakdown occurs within a thin surface oxide layer and the distribution of the contact resistance. Electrical load-bearing conduction through a thin insulating layer was found to occur through two possible sequential processes. In both cases, once a conduction path is formed, the melting of bridges as in conventional contact theory is involved. This suggests that conduction through an oxide layer with a low mechanical load depends mainly on breakdown-induced bridges. Furthermore, the distribution of such path’s resistance shows the log-normal distribution with a long tail toward high resistance.
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