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Reverse bias dependent impedance and dielectric properties of Al/n-NC FeSi2/p-Si/Pd heterostructures formed by facing-targets sputtering

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作者
Nattakorn Borwornpornmetee,Rawiwan Chaleawpong,Peerasil Charoenyuenyao,Adison Nopparuchikun,Boonchoat Paosawatyanyong,Phongsaphak Sittimart,Tsuyoshi Yoshitake,Nathaporn Promros
出处
期刊：Materials Science in Semiconductor Processing [Elsevier BV]
日期：2022-03-31 卷期号：146: 106641-106641 被引量：6
标识
DOI：10.1016/j.mssp.2022.106641
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