Study of the interfaces in resistive switching NiO thin films deposited by both ALD and e-beam coupled with different electrodes (Si, Ni, Pt, W, TiN)

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作者
Alessio Lamperti,Sabina Spiga,Hong-Liang Lü,Claudia Wiemer,Michele Perego,E. Cianci,Mario Alia,M. Fanciulli
出处
期刊:Microelectronic Engineering [Elsevier BV]
卷期号:85 (12): 2425-2429 被引量:25
标识
DOI:10.1016/j.mee.2008.09.039

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