Through-Silicon Vias: Drivers, Performance, and Innovations

通过硅通孔 钥匙(锁) 制作 缩放比例 三维集成电路 表征(材料科学) 集成电路 电子工程 材料科学 光学(聚焦) 计算机科学 计算机体系结构 工程物理 工程类 纳米技术 光电子学 医学 光学 物理 病理 替代医学 计算机安全 数学 几何学
作者
Paragkumar A. Thadesar,Xiaoxiong Gu,Ramakanth Alapati,Muhannad S. Bakir
出处
期刊:IEEE Transactions on Components, Packaging and Manufacturing Technology [Institute of Electrical and Electronics Engineers]
卷期号:6 (7): 1007-1017 被引量:42
标识
DOI:10.1109/tcpmt.2016.2524691
摘要

To address the abating performance improvements from device scaling, innovative 2.5-D and 3-D integrated circuits with vertical interconnects called through-silicon vias (TSVs) have been widely explored. This paper reviews TSVs with focus on the following: 1) key drivers for TSV-based integration; 2) TSV fabrication techniques; 3) TSV electrical and thermomechanical performance fundamentals and characterization techniques; and 4) novel technologies to attain enhanced performance beyond the state-of-the-art TSVs.
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