Self‐Limited Epitaxial Growth of Ultrathin Nonlayered CdS Flakes for High‐Performance Photodetectors

材料科学 光电探测器 外延 钝化 光电子学 比探测率 基质(水族馆) 纳米技术 响应度 图层(电子) 海洋学 地质学
作者
Bao Jin,Pu Huang,Qi Zhang,Xing Zhou,Xiuwen Zhang,Liang Li,Jianwei Su,Huiqiao Li,Tianyou Zhai
出处
期刊:Advanced Functional Materials [Wiley]
卷期号:28 (20) 被引量:97
标识
DOI:10.1002/adfm.201800181
摘要

Abstract 2D nonlayered materials that possess appealing properties are entering the researchers' vision. However, direct access to the 2D level of these materials is still a great challenge due to the instrinsic isotropic chemical bond. This work presents the initially self‐limited epitaxial growth of ultrathin nonlayered CdS flakes (as thin as 6 nm) on mica substrate with a large domain size (>40 µm) by employing In 2 S 3 as the passivation agent. Besides, the thickness and sizes of the products could be tunable by the addition level of In 2 S 3 amount. The growth mechanism is evidenced via experiments and theoretical calculations, which is attributed to the surface distortion effect of In–S motif and the preference of local environments for In on the CdS (0001) surface. The photodetector designed on CdS flake demonstrates a high photoswitching ratio (up to 10 3 ), a high detectivity ( D * ≈ 2.71 × 10 9 Jones), and fast photoresponse speed (τ R = 14 ms, τ D = 8 ms). The as‐proposed self‐limited epitaxial growth method opens a new avenue to synthetize 2D nonlayered materials and will promote their further applications in novel optoelectronic devices.

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