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Tailoring the electronic and photocatalytic properties of Mo1−xWx S2 monolayers via biaxial strain

单层 材料科学 带隙 半导体 光催化 极限抗拉强度 混溶性 化学物理 纳米技术 复合材料 光电子学 聚合物 有机化学 化学 催化作用
作者
Dipali Nayak,Rajalingam Thangavel
出处
期刊:Journal of Materials Science [Springer Science+Business Media]
卷期号:57 (6): 4283-4299 被引量:11
标识
DOI:10.1007/s10853-022-06889-3

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