A study on dry etching for profile and selectivity of ZrO2 thin films over Si by using high density plasma

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作者
Jong‐Chang Woo,Sang‐Gi Kim,Jin-Gun Koo,Gwan-Ha Kim,Dong‐Pyo Kim,Chong-Hee Yu,Jin-Yeong Kang,Chang-IL Kim
出处
期刊:Thin Solid Films [Elsevier BV]
卷期号:517 (14): 4246-4250 被引量:8
标识
DOI:10.1016/j.tsf.2009.02.012

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