A High-Performance SiC Super-Junction MOSFET With a Step-Doping Profile

材料科学 兴奋剂 击穿电压 功勋 光电子学 电压 电场 MOSFET 硬化(计算) 碳化硅 工程物理 凝聚态物理 电气工程 晶体管 复合材料 工程类 物理 量子力学 图层(电子)
作者
Hao Huang,Ying Wang,Cheng‐Hao Yu,Zhaohuan Tang,Xingji Li,Jianqun Yang,Fei Cao
出处
期刊:IEEE Journal of the Electron Devices Society [Institute of Electrical and Electronics Engineers]
卷期号:9: 1084-1092 被引量:5
标识
DOI:10.1109/jeds.2021.3125706
摘要

In this article, we investigate a 4H-SiC super-junction (SJ) MOSFET structure with a charge-imbalance doping-profile. According to our numerical simulations and comparisons with the conventional SiC VDMOS (C-VDMOS) and SiC SJ VDMOS (SJ-VDMOS) devices, the SJ-MOD structure offers a better trade-off between breakdown voltage (BV) and specific on-resistance (Ron,sp). This leads to a high figure of merit (FOM=BV2/Ron,sp). In addition, due to the reduced electric field peak, the single-event burnout (SEB) of the device is significantly improved. The simulation results indicate that, using a LET value of 0.1 pC/μm and a 3000K global device temperature as the criterion for burning, the specific burnout-threshold voltage (using the optimal parameters of the proposed structure) exceeds that of the conventional structure. This indicates that the modified super-junction structure can indeed be used for different voltage-classes of the hardening SiC super-junction devices in the future.
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