Improved TiN film as a diffusion barrier between copper and silicon

作者
Sa‐Kyun Rha,Won‐Jun Lee,Seung Yun Lee,Yong-Sup Hwang,Yoon-Jik Lee,Dong Il Kim,Dong‐Won Kim,Soung-Soon Chun,Chong-Ook Park
出处
期刊:Thin Solid Films [Elsevier BV]
卷期号:320 (1): 134-140 被引量:64
标识
DOI:10.1016/s0040-6090(97)01077-8
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