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Improved TiN film as a diffusion barrier between copper and silicon
作者
Sa‐Kyun Rha,
Won‐Jun Lee,
Seung Yun Lee,
Yong-Sup Hwang,
Yoon-Jik Lee,
Dong Il Kim,
Dong‐Won Kim,
Soung-Soon Chun,
Chong-Ook Park
出处
期刊：
Thin Solid Films
[Elsevier BV]
日期：1998-05-01
卷期号：320 (1): 134-140
被引量：64
标识
DOI：10.1016/s0040-6090(97)01077-8
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