Surface and interface roughness estimations by X‐ray reflectivity and RBS measurements

X射线反射率 表面光洁度 表面粗糙度 材料科学 光学 光谱学 分析化学(期刊) 反射率 化学 物理 复合材料 色谱法 量子力学
作者
Yoshikazu Fujii,K. Nakajima,Motofumi Suzuki,Kenji Kimura
出处
期刊:Surface and Interface Analysis [Wiley]
卷期号:46 (12-13): 1208-1211 被引量:2
标识
DOI:10.1002/sia.5644
摘要

X‐ray reflectivity (XRR) is often used to estimate the interface roughness. In principle, XRR can measure both surface and interface roughness. However, the sensitivity to the interface roughness is rather poor compared with the surface roughness. In order to improve the accuracy in the interface roughness, a combination analysis of XRR with high‐resolution Rutherford backscattering spectroscopy was performed. The surface and interface roughness were determined so that both XRR and high‐resolution Rutherford backscattering spectroscopy spectra can be reproduced. We also found that the effective roughness measured by XRR may depend on the angle of incidence. This is because the roughness depends on the size of the probing area. Copyright © 2014 John Wiley & Sons, Ltd.
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